Kundenspezifische Lieferung von Reinräumen an französische Halbleiterunternehmen
Kernanforderungen: Reinraumstandard ISO 5, Einhaltung der französischen NF EN 17141-Zertifizierung und Eignung für den ESD-Schutz bei Fotolithografieprozessen.
Der Kunde hat direkt über unsere Website angefragt und sich gezielt für unsere modulare Reinraumlösung entschieden. Um den hohen Anforderungen der Halbleiterfertigung gerecht zu werden, haben wir einen 3,2 m x 4,5 m großen Reinraum maßgeschneidert. Dieser ist mit einem hocheffizienten HEPA-Filtersystem (Partikelfiltrationseffizienz 0,3 μm > 99,99 %) und einem intelligenten Temperatur- und Feuchtigkeitsregelungssystem ausgestattet. Zusätzlich wurde eine ESD-Schutzvorrichtung integriert, um das Risiko von Chip-Kurzschlüssen von vornherein zu minimieren.
Vollständige Prozesskonformitätsgarantie: Das Produkt ist CE-zertifiziert und trägt die französische Umweltzertifizierung A+, wodurch das Risiko von VOC-Emissionen ausgeschlossen wird. Die effiziente Lieferung erfolgt zu EXW-Bedingungen inklusive aller erforderlichen Zollabfertigungsdokumente wie Ursprungszeugnis und Prüfberichten. Der Kunde organisiert Logistik und Abholung selbst – für eine sorgenfreie Partnerschaft.
Aktuell läuft die Anlage stabil in der Fotolithografiewerkstatt des Kunden und erfüllt effizient die Reinraumanforderungen für die Chipverpackung. Es wurde eine langfristige Kooperationsvereinbarung getroffen.